Axcelis Technologies在SEMICON Japan 2007期间推出的新款Optima XE单晶圆高能离子注入设备，是Axcelis Optima单晶圆系列最后一款产品。Optima XE所提供能量范围从10keV到4MeV，它所具有的灵活性及宽变的能量范围，可满足DRAM、NAND与NOR FLASH、嵌入式存储器以及逻辑器件制造过程中高能离子注入需求。此款设备结合了Axcelis经生产验证的RF Linac高能点波束（spot beam）技术及高速单晶圆离子注入endstation技术，所提供的吞吐量无可匹敌。SEMICON Japan 2007于12月5日-7日在日本Makuhari Messe展览馆举行。