据日经BP社报道，日本USHIO电机开发出了可发出波长为193nm单色光的准分子紫外灯（Excimer Lamp）。该成果为全球首创。无需使用昂贵的激光器即可用于ArF液浸光刻（Lithography）所需要的保护膜、材料。2008年9月开始面向研发用途销售。

配备了此次开发的灯管的照射装置，由于采用了ArF准分子紫外灯，不需要激光器那样的繁琐的气体更换工作。同时，也省去了气体配管以及有毒气体排出装置。维修方面，只需定期更换灯管，不需要调整光轴。初期成本仅为半导体光刻专用ArF激光器的数分之一。使用时，通过选择灯管与灯具，可满足多种照射范围的要求。照射装置的尺寸为430mm×200mm×150mm，重量为7kg，能够携带使用。

该公司计划在2007年12月5～7日千叶县幕张Messe会展中心举办的“SEMICON JAPAN 2007”展会上展出该产品。