Applied Materials日前推出业界最具生产能力的DUV明场晶圆检测设备Applied UVision 3，用于检测45nm前端制程及浸入式光刻工艺中的关键缺陷，并可满足32nm工艺研发之需。

　　在Applied UVision技术基础上，新款设备激光扫描光束数量增加至三倍，与目前最具竞争力的设备相比较，生产能力提高了40%；两套新的成像模式将灵敏度提高到20nm；新增的自动缺陷识别发动机能够快速识别目标缺陷获得良率信息；另外UVision 3具有灵敏光电倍增管与可变极化的独特DUV激光架构，可满足32nm存储器研发需要。

　　Applied Materials工艺诊断及控制事业部副总裁兼总经理Gilad Almogy表示，UVision 3系统的多电子束DUV激光架构能够达到传统光学检测系统所不能达到的分辨率极限。这套系统能够在更短的时间内提供更丰富更灵敏的信息，并已经过众领先厂商的量产验证。