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  • Encounter平台65纳米设计实现优化,为Starc成员提供集成DFM和良率设计功能
    http://www.ic72.com 发布时间:2007/7/23 8:30:00
        Cadence Design Systems将向日本Starc研究联合会提供其IC设计流程。 
        该流程针对在Cadence Encounter数字IC设计平台上的65纳米设计进行了优化,为Starc成员公司提供集成可制造性设计(DFM)和良率设计(design-for-yield)功能。 
        Cadence和Starc已经合作研究新的DFM功能超过15个月。Cadence Encounter平台包括SoC Encounter GXL RTL-to-GDSII系统、Chip Optimizer、CMP Predictor和QRC Extraction工具。 
        Starc自2001年以来一直在开展关键SoC设计技术的合作研究,推广作为Asuka II Project组成部分的合作开发项目。Starc的Asuka II项目拥有5年1.7亿美元的经费来发展DFM设计方法,2008年的目标为65纳米SoC,2011年为45纳米。 
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