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  • 绘制版图
    http://www.ic72.com 发布时间:2007/4/29 9:51:03

    一.画pmos 的版图(新建一个名为pmos 的cell)
    1. 画出有源区
    在LSW 中,点击active(dg),注意这时LSW 顶部显示active 字样,说明active 层为当前所选层次。然后点击icon menu 中的rectangle icon,在vituoso editing 窗口中画一个宽为3.6u,长为6u 的矩形。这里我们为了定标,必须得用到标尺。点击
    misc/ruler 即可得到。清除标尺点击misc/clear ruler。如果你在绘制时出错,点击需要去除的部分,然后点击delete icon。
    2. 画栅
    在LSW 中,点击poly(dg),画矩形。与有源区的位置关系如下图:

    3.画整个pmos
    为了表明我们画的是pmos 管,我们必须在刚才图形的基础上添加一个pselect 层,这一层
    将覆盖整个有源区0.6u。接着,我们还要在整个管子外围画上nwell,它覆盖有源区1.8u。
    如下图所示:

    4.衬底连接
    pmos 的衬底(nwell)必须连接到vdd。首先,画一个1.2u 乘1.2u 的active 矩形;然后在这个矩形的边上包围一层nselect 层(覆盖active0。6u)。最后将nwell 的矩形拉长,完成后如下图所示:

    这样一个pmos 的版图就大致完成了。接着我们要给这个管子布线。
    二.布线
    pmos 管必须连接到输入信号源和电源上,因此我们必须在原图基础上布金属线。
    1. 首先我们要完成有源区(源区和漏区)的连接。在源区和漏区上用contact(dg)层
    分别画三个矩形,尺寸为0.6 乘0.6。注意:contact 间距为1.5u。
    2. 用metal1(dg)层画两个矩形,他们分别覆盖源区和漏区上的contact,覆盖长度为
    0.3u。
    3. 为完成衬底连接,我们必须在衬底的有源区中间添加一个contact。这个contact 每
    边都被active 覆盖0.3u。
    4. 画用于电源的金属连线,宽度为3u。将其放置在pmos 版图的最上方。
    布线完毕后的版图如下图所示:

    图2-3-1 pmos 版图
    通过以上步骤我们完成了pmos 的版图绘制。接下来我们将绘制出nmos 的版图。
    三.画nmos 的版图
    绘制nmos 管的步骤同pmos 管基本相同(新建一个名为nmos 的cell)。无非是某些参
    数变化一下。下面给出nmos 管的图形及一些参数,具体绘制步骤就不再赘述。

    四.完成整个非门的绘制及绘制输入、输出

    1. 新建一个cell(inv)。将上面完成的两个版图拷贝到其中,并以多晶硅为基准将两图对齐。然后,我们可以将任意一个版图的多晶硅延长和另外一个的多晶硅相交。
    2. 输入:为了与外部电路连接,我们需要用到metal2。但poly 和metal2 不能直接相连,因此我们必须得借助metal1 完成连接。具体步骤是:
    a. 在两mos 管之间画一个0.6 乘0.6 的contact
    b. 在这个contact 上覆盖poly,过覆盖0.3u
    c. 在这个contact 的左边画一个0.6 乘0.6 的via,然后在其上覆盖metal2(dg),过覆盖0.3u
    d. 用metal1 连接via 和contact,过覆盖为0.3u
    从下图中可以看得更清楚:

    3. 输出:先将两版图右边的metal1 连起来(任意延长一个的metal1,与另一个相交)。
    然后在其上放置一个via,接着在via 上放置metal2。
    五.作标签
    1. 在LSW 中选择层次text(d3),点击create/label,在弹出窗口中的label name 中填
    入vdd!并将它放置在版图中相应的位置上。
    2. 按同样的方法创制gnd!、A 和Out 的标签。完成后整个的版图如下:

    图2-3-4 非门的版图
    至此,我们已经完成了整个非门的版图的绘制。下一步将进行DRC 检查,以检查版图在绘制时是否有同设计规则不符的地方。




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