据国外媒体报道，英特尔公司2月26日宣布，将投资10到15亿美元对美国新墨西哥州的芯片厂进行技术改造，以便能够使用45纳米工艺生产下一代电脑芯片。 

    英特尔这座芯片厂位于新墨西哥州的RioRancho。在此轮技术改造完成之后，该工厂将于明年下半年开始转移到45纳米工艺。

    英特尔公司此前已经表示，将分别向美国亚利桑那州钱德勒和以色列的芯片厂投资30和35亿美元，用于提升芯片厂工艺。 

    英特尔公司最近表示，仍将按照原定计划在今年下半年采用45纳米工艺生产芯片，而竞争对手AMD公司稍微落后一步，将在2008年年中推出45纳米芯片。 

     芯片线宽和晶圆面积是半导体行业产业升级的两个主要方向，更小的线宽意味着同一片晶圆可以产出更多的芯核，不仅成本降低，同时芯片的功耗也会降低。目前45纳米线宽是半导体行业最先进的制造工艺。