日本Lasertec开发出了可以支持各种CAD（Computer Aided Design）数据格式的中大型光掩膜图形缺陷检查设备“LI34/LI44”。该设备以支持光掩膜数据库格式“MEBES”的检查设备“51MD”系列的功能为基础，配备了可利用多种CAD数据格式（DXF、Gerver、GDS等）生成检查数据的功能。因此，除了面向液晶面板，还可以进行BGA（ball grid array）、印刷底板等广泛领域的光掩膜检查。同时价格也降低到了约2亿～3亿日元。

　　设备使用g线光源对制造液晶面板使用的掩膜等进行扫描，再将CCD（Charge Coupled Device）传感器检测出的信号与参照用的掩模图案或者数据库数据进行对比，从而找出缺陷。判断缺陷所使用的运算法则进行了修改，减少了判断错误的发生。可检查的玻璃底板尺寸范围，“LI34”为300mm×300mm～900mm×900mm，“LI44”为300mm×300mm～1200mm×1100mm。

　　此外，面向“51MD”系列，Lasertec还开发出了可以对光掩膜防尘保护膜进行异物检查并进行张贴的系统“51PA”。该系统可与“51MD”进行线内连接，在检查完光掩膜之后随即在光掩膜上贴上薄膜。因为配备有电离设备，在防止异物粘附的同时，还具有对薄膜进行异物检查，并利用吹风的方式清除异物的功能。最大可以对尺寸为1220mm×1400mm的掩膜使用的1146mm×1366mm的薄膜进行处理。

　　该公司计划在10月18日～20日于横浜Pacifico会议中心举行的“FPD International 2006”上对“LI34/LI44”等产品进行展出。