在我国半导体产业快速增长的带动下，近几年来我国半导体支撑
材料产业有了相当的发展，取得了明显的进步。在IC
CHINA 2006
期间，国内半导体支撑材料主要企业集中展示了其最新成果，并发布
了其最新动态和策略。
有研硅股：
建成12英寸硅单晶抛光片中试线
进入21世纪以来，国际集成电路制造技术进入了新一轮的快速发
展时期，0.13-0.10微米直径12英寸集成电路技术开始进入市场，对
直径12英寸硅片的需求也由技术研发转变为现实的市场需求。为适应
国际半导体产业的发展，有研硅股在科技部和北京市政府的共同支持
下，攻克了大直径硅单晶生长、大直径硅片加工、分析检测等一系列
技术难关，开发成功全套生产工艺，申请专利22项，并建成了我国第
一条月产1万片、直径12英寸硅单晶抛光片中试生产线。
公司技术人员在“863”计划战略性、前沿性、前瞻性定位要求
下，在不到5年的时间里，走过了从大直径单晶生长到抛光片成品的
近30道关键工序的技术方案设计、设备选型、工艺研究的全过程；跨
越了从关键技术研究向连续化生产的中试生产线导入的转变；经历了
从研究开发样品到批量生产产品的客户检测和供货评估的艰难历程，
实现了我国直径12英寸硅单晶抛光片生产零的突破。
科华微电子材料：
即将建设百吨级正胶生产线
北京科华微电子材料有限公司是2004年8月注册成立的中美合资
企业，主要从事超大规模集成电路、分立器件和液晶显示器件制作用
光刻胶及配套试剂的生产与研发，是目前国内同时集光刻胶研发与生
产、销售于一身的专业性高新技术企业。公司拥有国内外知名的具有
多年光刻胶研发经验的专家队伍、高素质的管理团队和具有国际先进
水平的分析和应用测试设备。公司拥有已建成投产的北京燕山生产基
地、位于美国波士顿的光刻胶研发实验室及正在建设中的北京天竺光
刻胶及配套试剂的生产基地。公司即将在北京天竺出口加工区建设百
吨级正胶生产线。
华谊微电子材料：
建成15000吨级电子化学品项目
上海华谊集团公司在“十五”期间成功承担了国家“863”超大
规模集成电路配套材料重大专项中超纯试剂工艺研究开发任务。在产
业化建设进程中与台湾联仕电子化学材料股份有限公司以各50%股份
合资成立了上海华谊微电子材料有限公司(华谊微电子)。公司集化学
品提纯、高纯高净分析检测、包装、售后服务为一体。
经过一年多的建设，华谊微电子年产15000吨的微电子化学品项
目已建成，并于9月8日举行开业典礼。项目包括超大规模集成电路制
造过程中需要的硫酸、过氧化氢、氨水、氟化铵、硝酸、盐酸、醋酸、
BOE等各主要品种，产品质量达到国际SEMIC12标准，可以满足12英寸
芯片的制造工艺要求。项目的建设将改变我国国内超大规模集成电路
制造业超纯高净试剂化学品依靠进口的局面。“十一五”期间，华谊
微电子将在已建成的万吨级微电子化学品装置基础上，继续提高产品
质量以满足半导体制造业的需要，以更好地为客户提供高品质服务。
晶瑞化学：
100ppt级双氧水项目将投产
苏州晶瑞化学有限公司是一家集开发、生产、营销微电子用高纯
化学品的高新企业。产品包括氢氟酸、过氧化氢、异丙醇、氨水、硫
酸、硝酸、盐酸、氟化铵、无水乙醇、丙酮、混酸蚀刻液等。产品广
泛应用于超大规模集成电路和TFT-LCD面板制造过程中的蚀刻与
清洗。已投入使用的一期工程，建筑面积3200平方米，万级(局部百
级)净化厂房400平方米。年产5000吨各类超高纯化学试剂。2006年2
月公司与比利时Solvay公司合资建立了苏州苏瑞电子材料有限公
司(Interox-SEM Co.，Ltd)，专注于开发、生产、营销超高纯双
氧水，公司设计年产4000吨100ppt级双氧水，产品规格可以满足8-
12英寸IC芯片生产工艺要求，预计将在2006年10月份全面投产。
光明化工研究设计院：
组建电子气体工程研究中心
随着我国IC产业的高速发展，IC产业关键支撑材料高纯电子气体
的需求呈现大幅增长态势。电子气体国产化已成为降低IC制造成本、
增强国际竞争力、实现我国IC产业健康发展的必然。光明化工研究设
计院前身为化工部光明化工研究所，是以特种气体(包括电子气体)为
主导方向的科研机构。经过四十多年的发展，光明院已形成以特种气
体、微电子、光电子关键支撑材料———电子化学品为主导的多种专
业并存的，集科研开发、工程设计、生产经营、技术服务、质量检验
为一体的综合性科研机构。化学工业(全国)气体质量监督检验中心、
全国特种气体信息中心均设在光明院。
光明院已确定组建电子气体工程研究中心，工程中心将以光明院
为技术依托，以“科技成果产业化、运行机制企业化、发展方向市场
化”为核心，实现机制创新与技术创新相结合，建成高水平的电子气
体研究开发、技术创新与产业化基地。
